采购单位:	*****************************
项目名称:	*****************************
预算金额（元）:	,,.
采购品目:	其他仪器仪表
采购需求概况:	、贴片固态源扩散炉 . 炉管适配晶圆尺寸：英寸及以下圆片，产量≥片/批 . 炉体及工艺管：炉体内径（三段控制）：≥φmm；石英管直径：≥φmm；炉体：温度 ℃～℃； . 均热区长度及精度：℃≤工作温度≤℃-mm±.℃；工作温度≤℃-mm±℃；升温时间(从室温升至℃)-≤min。、快速退火炉 . 样片尺寸：英寸圆片及向下兼容；加热温度范围:室温~℃，加热方式:卤素灯管； . 升温速率：≥℃/s裸晶圆；≥℃/s碳化硅载盘； . 温度均匀度: ＜℃，均匀度≤±℃;≥℃，均匀度≤±%，温度控制重复性:±℃，恒温持续时间:可依据要求编程； . MFC:路，氧气、氮气或氩气。、等离子增强化学气相沉积 . 样片尺寸：英寸圆片及向下兼容； . 反应腔室：电容耦合等离子体模式；一体化加工腔室,进气方式：喷淋头进气； . 薄膜均匀性±%； . 真空系统：罗茨泵和机械泵组合，真空测量：薄膜规，反应腔室真空度小于Pa； . 气路系统：路进气，SiH、NH、NO、O、N、CF、AR或H, 数字流量计；VCR 管路配件； . 射频系统：W射频功率源，自动匹配； . 温度控制：载片台温度≤℃，温控精度± ℃。、磁控溅射台 . 样品基台：直径英寸样品，满足多个小基片同时处理； . 反应腔室：不锈钢材质，传输腔铝一体加工，自动传输； . 靶座系统：英寸圆形靶座个，位于腔室下部； . 真空性能：本底真空优于.x-Pa，真空系统：分子泵，机械泵； . 气路系统：标配路进气，Ar和N； . 电源系统：W/.MHz自动匹配射频源套；W直流源套； . 样品载台：自转旋转-rpm可调； . 薄膜均匀性±%。、膜厚测量仪 . 可测光滑的，半透明的或低吸收系数的电介质与半导体材料薄膜，测厚范围：nm-um； . 波长范围: nm -nm；精度：＜.nm 或 .%；准确度：＜.% 或 nm；稳定性：<.nm或.%；光斑大小：≤**mm。
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预计采购时间:	-
备注:	无

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准